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简述退火炉的分类及特点

作者: 浏览:197 时间:2020-12-07

退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺,其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以激活掺杂剂,将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面,使致密沉积的薄膜,改变生长的薄膜的状态,修复注入的损伤,移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶

退火炉是用于制造半导体器件的过程,该过程包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。 热处理旨在实现不同的效果。 可以加热晶圆以激活掺杂剂,将薄膜转化为薄膜,或者将薄膜转化为晶圆基材界面,制成致密沉积的薄膜,改变生长薄膜的状态,修复注入的损伤,移动晶圆。 掺杂剂或改变掺杂剂试剂从一层膜转移到另一层,或从膜转移到晶圆基板中。 退火炉的主要功能体现在以下四个方面:

1。 改善或消除铸钢,轧制,锻造和焊接引起的各种结构缺陷和残余应力,并避免工件变形和开裂。

2,为终的热处理(淬火,回火)做好准备。

3。 细化晶粒并改善结构以改善工件的机械性能。

4。 软化工件以利于切割。

简述退火炉的分类及特点  

退火炉的常见分类如下:

1。 退火炉分为三种类型:电加热,油加热和气体加热。 它们是电加热退火炉,燃料退火炉和天然气退火炉。

2,将退火炉分为不同的炉体结构,例如车式退火炉,凹坑式退火炉,箱式退火炉和钟罩式退火炉。

3。 退火炉也可以分为真空退火炉,受控气氛退火炉和在自然气氛中加热的退火炉。


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